臺積公司堅持技術自主,奠定全球技術領導地位,提供專業積體電路制造服務領域中最先進及最完備的技術與服務。

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3奈米制程
臺積公司的3奈米(N3)制程技術將是5奈米(N5)制程技術之后的另一個全世代制程,在N3制程技術推出時將會是業界最先進的制程技術...
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5奈米制程
臺積公司的5奈米鰭式場效電晶體(Fin Field-Effect Transistor,FinFET) 制程技術是同時針對行動應用和高效能運算應用優化的制程選項...
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7奈米制程
臺積公司的7奈米鰭式場效電晶體(Fin Field-Effect Transistor,FinFET)制程技術提供專業積體電路造服務領域最具競爭力的邏輯閘密度...
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10奈米制程
臺積公司的10奈米鰭式場效電晶體制程技術(Fin Field-Effect Transistor,FinFET)締造專業積體電路制造服務領域在效能、功耗及面積...
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16/12奈米制程
臺積公司于2013年11月領先全球專業積體電路制造服務領域,成功試產16奈米FinFET(Fin Field Effect Transistor,鰭式場效電晶體)制程技術...
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20奈米制程
臺積公司于2014年領先全球半導體制造業成功以雙重曝刻(Double Patterning)量產客戶20奈米產品, 并于該年度締造最快速產能提升...
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22奈米制程
22奈米超低功耗制程技術(22nm Ultra-Low Power, 22ULP)發展系根基于臺積公司領先業界的28奈米制程,并于2018年第四季完成所有...
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28奈米制程
臺積公司于2011年領先專業積體電路制造服務領域推出28奈米泛用型(General Purpose)制程技術,并針對客戶需求提供業界最完備多樣的...
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40奈米制程
臺積公司于2008年領先專業積體電路制造服務領域,采用40奈米制程技術為多家客戶量產晶片。此一技術結合了193奈米浸潤式曝光顯影制程以及...
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65奈米制程
臺積公司于2005年領先專業積體電路制造服務領域成功試產65奈米晶片,并于2006年成功通過65奈米制程技術的產品驗證,并針對客戶需求率先...
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90奈米制程
臺積公司領先全球于2004年12月日本半導體展(SEMICON Japan)中,發表已順利使用浸潤式曝光(Immersion Lithography)機臺產出...
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0.13微米制程
臺積公司領先全球半導體業界,成功開發0.13微米系統單晶片(System-on-a-Chip,SoC)銅/低介電系數(Cu/Low-K)制程技術,其中重要...
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0.18微米制程
臺積公司領先全球在1998年就推出了世界第一個0.18微米低耗電制程技術。之后,更每隔兩年就領先競爭對手推出下一代新的低耗電制程技術...
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3微米制程
臺積公司于1987年創立,即秉持?自主技術?的策略,并積極進行制程技術開發,以奠定競爭優勢。臺積公司成立之初,自臺灣工研院移轉3.5微米...