臺積公司堅持技術自主，奠定全球技術領導地位，提供專業積體電路制造服務領域中最先進及最完備的技術與服務。
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3奈米制程
臺積公司的3奈米（N3）制程技術將是5奈米（N5）制程技術之后的另一個全世代制程，在N3制程技術推出時將會是業界最先進的制程技術...
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5奈米制程
臺積公司的5奈米鰭式場效電晶體（Fin Field-Effect Transistor，FinFET) 制程技術是同時針對行動應用和高效能運算應用優化的制程選項...
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7奈米制程
臺積公司的7奈米鰭式場效電晶體（Fin Field-Effect Transistor，FinFET）制程技術提供專業積體電路造服務領域最具競爭力的邏輯閘密度...
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10奈米制程
臺積公司的10奈米鰭式場效電晶體制程技術（Fin Field-Effect Transistor，FinFET）締造專業積體電路制造服務領域在效能、功耗及面積...
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16/12奈米制程
臺積公司于2013年11月領先全球專業積體電路制造服務領域，成功試產16奈米FinFET（Fin Field Effect Transistor，鰭式場效電晶體）制程技術...
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20奈米制程
臺積公司于2014年領先全球半導體制造業成功以雙重曝刻（Double Patterning）量產客戶20奈米產品， 并于該年度締造最快速產能提升...
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22奈米制程
22奈米超低功耗制程技術（22nm Ultra-Low Power, 22ULP）發展系根基于臺積公司領先業界的28奈米制程，并于2018年第四季完成所有...
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28奈米制程
臺積公司于2011年領先專業積體電路制造服務領域推出28奈米泛用型（General Purpose）制程技術，并針對客戶需求提供業界最完備多樣的...
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40奈米制程
臺積公司于2008年領先專業積體電路制造服務領域，采用40奈米制程技術為多家客戶量產晶片。此一技術結合了193奈米浸潤式曝光顯影制程以及...
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65奈米制程
臺積公司于2005年領先專業積體電路制造服務領域成功試產65奈米晶片，并于2006年成功通過65奈米制程技術的產品驗證，并針對客戶需求率先...
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90奈米制程
臺積公司領先全球于2004年12月日本半導體展（SEMICON Japan）中，發表已順利使用浸潤式曝光（Immersion Lithography）機臺產出...
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0.13微米制程
臺積公司領先全球半導體業界，成功開發0.13微米系統單晶片（System-on-a-Chip，SoC）銅／低介電系數（Cu/Low-K）制程技術，其中重要...
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0.18微米制程
臺積公司領先全球在1998年就推出了世界第一個0.18微米低耗電制程技術。之后，更每隔兩年就領先競爭對手推出下一代新的低耗電制程技術...
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3微米制程
臺積公司于1987年創立，即秉持?自主技術?的策略，并積極進行制程技術開發，以奠定競爭優勢。臺積公司成立之初，自臺灣工研院移轉3.5微米...
